PVD真空鍍膜的簡介

　PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優點：如對環境無污 染，是綠色環保工藝;對操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有：蒸發鍍膜(包括電弧蒸發、電子槍蒸發、電阻絲蒸發等技術)、濺射鍍膜(包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術)，這些方法統稱物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)， 簡稱為PVD。