PVD鍍膜機鍍膜原理解析

　　PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術的發展是最快的，它已經成為了當代先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。

　　PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。